“RIBD”是“Reactive Ion Beam Deposition”的缩写，意思是“反应离子束沉积”

英语缩略词“RIBD”经常作为“Reactive Ion Beam Deposition”的缩写来使用，中文表示：“反应离子束沉积”。本文将详细介绍英语缩写词RIBD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词RIBD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“RIBD”（ 反应离子束沉积 ）释义

• 英文缩写词：RIBD
• 英文单词：Reactive Ion Beam Deposition
• 缩写词中文简要解释：反应离子束沉积
• 中文拼音：fǎn yìng lí zǐ shù chén jī
• 缩写词流行度：528
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Physics

以上为Reactive Ion Beam Deposition的英文缩略词RIBD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词RIBD的扩展资料

Amorphous carbon nitride a-CN. x. thin films are prepared by reactive ion beam sputtering deposition method using N 2 as working gas and a graphite target.
采用离子束溅射反应沉积技术，以高纯N2为工作气体，利用在不同气压下产生的离子束轰击石墨靶，在石英基片上溅射出的碳原子与氮离子反应，沉积出a-CNx薄膜。

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