“IBD”是“Ion Beam Deposition”的缩写，意思是“离子束沉积”

英语缩略词“IBD”经常作为“Ion Beam Deposition”的缩写来使用，中文表示：“离子束沉积”。本文将详细介绍英语缩写词IBD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词IBD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“IBD”（ 离子束沉积 ）释义

• 英文缩写词：IBD
• 英文单词：Ion Beam Deposition
• 缩写词中文简要解释：离子束沉积
• 中文拼音：lí zǐ shù chén jī
• 缩写词流行度：790
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Electronics

以上为Ion Beam Deposition的英文缩略词IBD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词IBD的扩展资料

He studied physics at the Universities of Bremen and Konstanz, and completed his PhD thesis entitled " Diamond-pke materials prepared via mass selected ion beam deposition " in1996.
博士论文主题为离子质量选择法制备类金刚石材料，离子束沉积(IBD)的类金刚石薄膜。

The various preparation methods of a-C : H thin films, including plasma deposition, ion beam deposition, sputtering and chemical vapor deposition, were described in detail in this paper.
本文详细介绍了a-C∶H薄膜的各种制备方法，包括等离子体淀积法、离子束法、溅射法和化学汽相淀积法等，给出了某些典型的实验条件。

The results as followed were shown : ( 1 ) There exist some particles and pits with a dimension of hundreds nm in the W-DLC films fabricated by ion beam deposition + magnetron sputtering.
结果表明：（1）利用离子束沉积(IBD)+磁控溅射技术制备的掺钨DLC膜表面存在尺寸为几百nm的颗粒及凹坑等缺陷。

Early work on the fabrication of ceramic thin films was mainly based on vacuum deposition techniques such as ion beam deposition and sputtering. But vacuum techniques have restricted the deposition of device-quapty films due to problems of poor stoichiometric control and complex sets of deposition parameters.
早期制备陶瓷薄膜主要采用真空镀膜技术如等离子溅射法，但真空技术由于化学计量比较难以控制并且制备参数复杂，影响了成膜质量。

The ( 111 ) textured cubic sipcon carbide ( 3C-SiC ) thin films are deposited on ( 111 ) Si substrates using the mass-selected ion beam deposition technique at various substrate temperatures.
在硅衬底上利用具有质量选择功能的低能离子束沉积(IBD)技术沉积碳离子制备出除碳、硅之外无其他杂质元素的纯净的立方SiC薄膜。

上述内容是“Ion Beam Deposition”作为“IBD”的缩写，解释为“离子束沉积”时的信息，以及英语缩略词IBD所代表的英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。