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“APCVD”是“Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition”的缩写,意思是“大气压化学气相沉积”

“APCVD”是“Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition”的缩写,意思是“大气压化学气相沉积”



英语缩略词“APCVD”经常作为“Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用,中文表示:“大气压化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词APCVD所代表英文单词,其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外,还有关于缩略词APCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“APCVD”( 大气压化学气相沉积 )释义

  • 英文缩写词:APCVD
  • 英文单词:Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition
  • 缩写词中文简要解释:大气压化学气相沉积
  • 中文拼音:dà qì yā huà xué qì xiāng chén jī
  • 缩写词流行度:16
  • 缩写词分类:Academic & Science
  • 缩写词领域:Electronics

以上为Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition的英文缩略词APCVD的中文解释,以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词APCVD的扩展资料

    TiN films were deposited on glass substrates by atmospheric pressure chemical vapor deposition ( APCVD ) using titanium tetrachloride ( TiCl_4 ) and ammonia ( NH_3 ) as reactants, nitrogen ( N_2 ) as protective atmosphere and carrier gas in this paper.
    本论文利用化学气相沉积法(APCVD),以TiCl4和NH3气体作为反应物,以惰性气体N2作为保护气体和载气,在玻璃基板上沉积TiN薄膜。

    The paper put forward an aim to deposit titanium films and TiO_2 / SnO_2 : F multiple films prepared by the method of dielectric barrier discharge atmospheric pressure chemical vapor deposition ( DBD-CVD ).
    提出以介质阻挡放电化学气相沉积法(DBD-CVD)制备TiO2单层薄膜和TiO2/SnO2:F复合薄膜的实验目标。

    Structure and Hydrophipcity of Titanium Dioxide Film Prepared by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition(APCVD)
    AP-CVD法制备的二氧化钛薄膜结构及亲水性研究

    Growth and Properties of TiN Films on Glass by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition(APCVD)
    TiN镀膜玻璃的常压化学气相沉积法制备及其光电性能研究

    The atmospheric pressure chemical vapor deposition ( APCVD ) technique has a great apppcation potential to be a method to prepared the economical tin oxide films for its simple equipment, inexpensive and suitable for mass production.
    常压化学气相沉积法以其设备简单、成本低、易实现大面积镀膜等优点成为一种很有应用潜力的制备SnO2薄膜的方法,在镀膜玻璃的工业化生产中有广阔的应用前景。

上述内容是“Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition”作为“APCVD”的缩写,解释为“大气压化学气相沉积”时的信息,以及英语缩略词APCVD所代表的英文单词,其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度和相关分类、应用领域及应用示例等。

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