“PCVD”是“Plasma Chemical Vapor Deposition”的缩写，意思是“等离子体化学气相沉积”

英语缩略词“PCVD”经常作为“Plasma Chemical Vapor Deposition”的缩写来使用，中文表示：“等离子体化学气相沉积”。本文将详细介绍英语缩写词PCVD所代表英文单词，其对应的中文拼音、详细解释以及在英语中的流行度。此外，还有关于缩略词PCVD的分类、应用领域及相关应用示例等。

“PCVD”（ 等离子体化学气相沉积 ）释义

• 英文缩写词：PCVD
• 英文单词：Plasma Chemical Vapor Deposition
• 缩写词中文简要解释：等离子体化学气相沉积
• 中文拼音：děng lí zǐ tǐ huà xué qì xiāng chén jī
• 缩写词流行度：731
• 缩写词分类：Academic & Science
• 缩写词领域：Electronics

以上为Plasma Chemical Vapor Deposition的英文缩略词PCVD的中文解释，以及该英文缩写在英语的流行度、分类和应用领域方面的信息。

英文缩略词PCVD的扩展资料

Under the catalytic effect of nickel particles, spring-pke carbon filaments were synthesized through microwave plasma chemical vapor deposition.
以镍为催化剂，利用微波等离子体化学气相沉积(PCVD)法制备了弹簧状碳纤维。

Atmospheric-pressure Plasma Chemical Vapor Deposition(PCVD) for Polycrystalpne Sipcon Preparation from SiCl_4 and OES Diagnosis
由SiCl4制备多晶硅的大气压等离子体化学气相沉积(PCVD)及发射光谱诊断

The relation between characteristics of hot cathode glow discharge and diamond film deposition techniques in hot cathode glow discharge plasma chemical vapor deposition process was discussed.
采用傅立叶红外吸收谱和紫外-可见透射谱研究了螺旋波等离子体增强化学气相沉积法制备的氢化非晶氮化硅薄膜的原子间键合结构和光学特性。

Ultrafine TiO_2 particles were synthesized by TiCl_4 and O_2 in radio frequency plasma chemical vapor deposition reactor.
利用TiCl＿4＋O＿2体系，在高频等离子体化学气相淀积反应器中合成了纯度高、粒度细的TiO＿2粒子。

Carbon nanotube films were synthesized on Ni substrate by microwave plasma chemical vapor deposition at low temperature.
以镍片为基板材料，利用微波等离子体化学气相沉积(PCVD)法在低温条件下合成了纳米碳管膜。

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